CKD Technologia non solum novas machinas in genere, statim praesto est.
Nos quoque negotia accurata locamus, parati ad serviendum vestrae productionis exigentiis, dum signanter initialem obsidionem demittimus. Contact us pro magis details.
CKD turmas fabrum professionalium habet, promptos ad tradendas operas clavis vicissim.
Ad mercaturam machinarum adhibitarum, pete nobis per whatspp vel email.
-------------------------------------------------------------------------------------
MYS10 series est plene automated, in linea plasma processus systematis enucleatum pro applicationibus in sectoribus sicut semiconductores, electronicas, electronicas, SMT, optoelectronicas, technicae medicae.
• Atmosphaerico-pressio argonis plasma systematis
• 100mm-latum in-linea massae plasmatis processui; offert 2-5 temporibus altiorem efficientiam et super XXX% inferiores pretia laboris ad traditional modos
• 100% plasma neutrum; tutus et lenis in membra electronic sensitiva — nullum plasma bombardarum, electricitatis statice, scintillae, arcus, pulvis, calor altus, undarum superficies, vel radiatio UV, nulla damna in productorum efficiunt.
• Foedus plasma suggestum praebet altam flexibilitatem et convenientiam
• processus chemici versatiles: O2 processus ad contaminantium tollendos organicos; H2 processum ad removendum oxydatum metallum et activum productum superficierum
• nulla generatio particularum vel liquidarum contaminantium
| Basic Specifications | MYS10 |
| Potentia Requirements | AC 200-240V, 4.4kW, 20A, 50/60Hz |
| Air Pressure Requirements | 90 psi (6 bar) |
| Dimensiones | 790 x 1200 x 1880 mm |
| Pondus | 800 kg |
| Certification signa | CE, SEMI S2 |
| Positioning Cura | XY: ±30 µm @3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| XYZ Axis Repeatability | XY: ±15 µm @3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maximum Volo | 1000 mm/s (XY) |
| Acceleratio | 1.0g |
| Coegi Ratio | AC servo |
| Opus Specifications Platform | |
| Type track | Cingulum |
| Rail onus facultatem | 3 kg |
| Crassitudo subiecta range (sine carrier) | 0.5-6 mm |
| Z-axis peregrinatione | 100 mm |
| Maximilianus. pars altitudinis (top parte) | 26 mm |
| Maximilianus. pars altitudinis (ima parte) | 23 mm |
| Communicatio protocol | SMEMA |
| range opus | |
| Plasma area (W×D) | 350-475 mm |
| Aqua Contact Angulus (WCA) post plasma curatio | WCA < 10° (laganum Pii) WCA <20° (Non-metallica) |
| Plasma curatio methodo | C2 processus organicum contaminant remotionem H2 processum ad metallum oxydatum remotionem |
| Plasma ratio requisita | |
| RF Power | 600W apud 27.12MHz |
| Principalis Plasma Gas | Argon |
| Processus Gas | O2, N2, vel H2 |
| Gas Supple Impetus dolor | 40-100 psi (0.3-0.7 MPa) |
Oratio
5th Solum, Aedificium 2, No. CLXXXII, Chang'an Xi'an via, Chang'an Oppidum, Dongguan, Guangdong Provincia, Sinis.
Tel
